分子篩催化劑研磨分散機，分子篩脫銷催化劑研磨分散機，分子篩催化劑高速研磨分散機，分子篩高剪切研磨分散機，超高速研磨分散機，德國進口研磨分散機，連續(xù)式研磨分散機 中試型研磨分散機，實驗室研磨分散機 IKN研磨分散機設計獨特，能夠延長易損件的使用時間，因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎�？梢砸粰C多用，也可以單獨使用，且粉碎粒度范圍廣，成品粒徑可以進行調整。 分子篩催化劑又稱沸石催化劑，具有離子交換性能、均一的分子大小的孔道、酸催化活性，并有良好的熱穩(wěn)定性和水熱穩(wěn)定性，可制成對許多反應有高活性、高選擇性的催化劑。應用最廣的有X型、Y型、絲光沸石、ZSM-5等類型的分子篩。工業(yè)上用量最大的是分子篩裂化催化劑。 按催化性質，分子篩催化劑可以分為以下幾點： (1) 酸催化劑，利用分子篩的表面酸性進行催化反應。 (2)雙功能催化劑，分子篩可以負載鉑、鈀類的金屬，得到兼有金屬催化功能和酸催化功能的雙功能分子篩催化劑。 (3) 擇形催化劑，由于分子篩的催化作用一般發(fā)生在晶體內空間，分子篩的孔徑大小和孔道結構對催化活性和選擇性有很大的影響。分子篩具有規(guī)整而均勻的晶內孔道，而且孔徑大小接近于分子尺寸，使分子篩的催化性能隨反應物分子、產物分子或反應中間物的幾何尺寸的變化而顯著變化。 分子篩脫銷催化劑具有耐高溫性能優(yōu)良且具有較好低溫活性的分子篩脫硝催化劑。該催化劑活性溫度窗口寬(300~600℃)，氮氧化物脫除效率達到90% 以上，在水蒸氣和SO2 存在的條件下仍然可以保留良好的活性。 CMD2000研磨分散機為立式分體結構，精密的零部件配合運轉平穩(wěn)，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續(xù)24小時不停機運行。 CMD2000系列研磨分散機的結構：研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產品。 第一級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。 第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經驗指定工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出zui終產品是很重要。 從設備角度來分析，影響研磨分散機效果因素有以下幾點： 1.研磨頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次式要好） 2.研磨頭的剪切速率，（越大效果越好） 3.研磨的齒形結構（分為初齒、中齒、細齒、超細齒、越細齒效果越好） 4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間（可以看作同等電機，流量越小效果越好） 5.循環(huán)次數(shù)（越多效果越好，到設備的期限就不能再好了。） 線速度的計算： 剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s) g 定-轉子 間距 (m) 由上可知，剪切速率取決于以下因素： 轉子的線速率 在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距。 IKN 定-轉子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm 速率V= 3.14 X D（轉子直徑）X 轉速 RPM / 60 所以轉速和分散頭結構是影響分散的一個zui重要因素，超高速分散均質分散機的高轉速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的 分子篩催化劑研磨分散機，分子篩脫銷催化劑研磨分散機，分子篩催化劑高速研磨分散機，分子篩高剪切研磨分散機，超高速研磨分散機，德國進口研磨分散機，連續(xù)式研磨分散機 中試型研磨分散機，實驗室研磨分散機