真空爐專(zhuān)用氮?dú)鈨艋瘷C(jī)、金屬材料機(jī)械零部件熱處理保護(hù)氣氛專(zhuān)用氮?dú)鈨艋�器、高純材料生產(chǎn)保護(hù)氣氛專(zhuān)用氮?dú)鈨艋�設(shè)備、氮?dú)饧兓��?本系列氮?dú)鈨艋瘷C(jī)主要用于高純材料的生產(chǎn)保護(hù)氣氛，也可用于一些氮化物如氮化鎵的生產(chǎn)用氣，尤其廣泛的應(yīng)用于真空爐、金屬材料、機(jī)械零部件的熱處理保護(hù)氣氛以及高純材料生產(chǎn)等保護(hù)氣氛。 凈化原理 該系列設(shè)備利用催化劑與氧氣反應(yīng)生成氧化物的原理除去氮?dú)庵械碾s質(zhì)氧氣，再利用吸附劑吸附脫除氮?dú)庵械腍2O、CO2等雜質(zhì)，從而得到高純氮?dú)獾摹?氮?dú)饧兓�裝置的技術(shù)參數(shù) 對(duì)原料氮?dú)庖��?一般瓶裝純氮，液氮、控制較好的管道氮?dú)狻?雜質(zhì)要求： O2≤1000PPm, H2O≤1000PPm。 輸出純氣 純度：99.9998% 雜質(zhì)含量： O2≤0.5PPm， H2O≤1PPm(即露點(diǎn)≤－76℃)， CO+CO2≤0.1PPm， S、P的氧化物≤0.1PPm。 塵埃粒子數(shù)（≥0.3μm）3-5個(gè)／升。 工作壓力：0.4-1.5MPa。 處理氣量：10NM3/h。 設(shè)備特點(diǎn) 1、催化劑活性高，凈化后的氣體純度高。 2、雙式結(jié)構(gòu)，一組工作另一組再生備用，故能長(zhǎng)期連續(xù)供氣。 3、采用本機(jī)純氣吹掃的再生流程，再生不用氫，故不需專(zhuān)用機(jī)房，安全性好。